A、除去光刻胶中剩余的溶剂
B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
D、有利于以后的去胶工序
E、减少光刻胶的缺陷
时间:2021-12-26 20:20 关键词: 集成电路制造工艺员(三级) 集成电路制造工艺员
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