问题详情

光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。


A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶

B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶

C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶

D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

时间:2022-01-01 12:12 关键词: 集成电路制造工艺员(三级) 集成电路制造工艺员

答案解析

C