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为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。

A、磁分析器

B、正交电磁场分析器

C、静电偏转电极

D、束流分析仪

时间：2021-12-26 20:22 关键词： 集成电路制造工艺员（三级） 集成电路制造工艺员

答案解析

C