首 页
大学试题
CMS专题
工学
经济学
专升本
法学
教育学
历史学
更多分类
搜索
题库考试答案搜索网 > 题目详情
当前位置：
首页
>
光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
>
题目详情
问题题干
答案解析
相关问题
热门问题
最新问题
问题详情
光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
A、正确
B、错误
时间：2022-02-25 16:31
关键词：
集成电路工艺原理
电子与通信技术
答案解析
正确
相关问题
应用分立元件和集成电路组成的汽车电子产品属于汽车电子技术发展的第几阶段：
下列电子元器件，①超大规模集成电路 ②晶体管 ③电子管 ④中、小规模集成电路，按照计算机发展的演变过程，其正确的排序是？
集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺？各有什么优缺点？
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
最新问题
光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
计算机发展的五个时代是电子管、晶体管、集成电路、大规模集成电路、（）。
风险包括设计技术、制造技术、工艺技术等。
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
电子元件、电子器件和电路技术、电子计算机技术、电子通讯技术相结合的集成技术叫（）。
电力电子器件驱动电路是主电路和控制电路的电气隔离环节，电气隔离一般采用（）隔离。
在双极集成电路制造中，为什么要采用外延和埋层工艺？
线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标，目前芯片制造的主流技术中线宽为（）。
集成电路制造需要在告别净化环境下进行，而光刻区对净化级别要求最高，如普通制造环境为1000级，则光刻区的净化环境则为10000级。
POWER6与POWER55+相比集成度更高，POWER5+采用（）纳米CPU制造工艺，而POWER6采用（）纳米CPU制造工艺。
别人在看
题库考试答案搜索网 > 题目详情
题库考试答案搜索网 > 题目详情